ProduktGAEinsatzgebiet
18002 SLOTONIP CT 20
Chemisches Nickelbad
Abscheidung von Ni-P/PTFE-Dispersionsschichten mit 10 - 13 % Phosphor in der Ni-P Schicht und ca. 20 - 30 Vol.% PTFE für hohe tribologische Anforderungen
18014 SLOTONIP 90
Chemisches Nickelbad
Abscheidung von Nickel-Phosphor Schichten mit 10 - 12 % Phosphor Überzüge mit besonders hoher Korrosionsbeständigkeit
18015 SLOTONIP 90 K
Chemisches Nickelbad
Abscheidung von Nickel-Phosphor Schichten mit 10 - 12 % Phosphor Überzüge mit besonders hoher Korrosionsbeständigkeit, ammoniumfreie Variante
18031 SLOTONIP 30 1
Chemisches Nickelbad
Elektrolyt zur stromlosen Abscheidung von Nickel-Phosphor Überzügen auf Metallen und Nichtleitern mit 7 - 10 % Phosphor
18033 SLOTONIP 30 3
Chemisches Nickelbad
Einsatz für Elektronikbauteile, Leiterplatten und Aluminium
18070 SLOTONIP 70 K
Chemisches Nickelbad
Abscheidung von Nickel-Phosphor Schichten mit 7 - 10 % Phosphor Allroundverfahren ammoniumfrei
18071 SLOTONIP 70 A
Chemisches Nickelbad
Abscheidung von Nickel-Phosphor Schichten mit 7 - 10 % Phosphor Allroundverfahren

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